
10月27日上午收盘,沪指早间震荡走强,再创十年新高,逼近4000点。板块方面,钢铁、CPO、福建等板块涨幅居前,风电、游戏等板块跌幅居前。ETF方面,广发中证半导体材料设备ETF(560780)半日涨2.89%,成分股中,晶瑞电材(300655.SZ)涨15.1%,艾森股份(688720.SH)涨7.69%,富创精密(688409.SH)涨6.39%,南大光电(300346.SZ)涨6.31%。
消息面上,10月23日,中国共产党第二十届中央委员会第四次全体会议公报发布。国际主流媒体重点关注公报提及的“加快高水平科技自立自强,引领发展新质生产力”这一部署,认为全面增强自主创新能力和科技实力,已成为中国未来发展的重点之一。还有外媒认为,中国希望能使经济免受外部压力的影响,同时打造可持续的增长引擎。
银河证券表示,“十五五”规划重点聚焦关键核心技术领域的自主突破,设备是直接受益环节之一。短期看,AI 算力需求推动国内外逻辑与存储厂商扩产,刻蚀、薄膜沉积设备需求旺盛;长期看,国产替代逻辑在“十五五”科技自强战略下更为稳固。
此外,10月25日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案,光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。
长江证券表示,当前中国光刻胶产业已形成“多点开花,梯队突破”的格局。多家机构认为,三重逻辑支撑行业高增长:市场规模持续扩容,国产化替代空间广阔;技术突破打通产业化瓶颈;政策+需求双轮驱动,行业进入红利释放期。中国光刻胶产业正从“技术突破期”迈向“规模化放量期”和“盈利能力兑现期”。